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高純度・高性能洗浄剤/エレクトロニクス材料

CA-HPシリーズ 

半導体
  • 高純度に精製されたクエン酸水溶液。
  • Siウェハの製造、再生工程の洗浄に適する。
製品名 特徴 適用例
CA-HP 10 高純度
10%クエン酸水溶液
各種洗浄剤原料
不純物金属イオン除去用洗浄剤
(ウェハー製造、再生工程)
CA-HP 30 高純度
30%クエン酸水溶液

CIREXシリーズ 

半導体
  • ウェハ表面に吸着している不純物金属を有機酸でイオン化、これをキレート剤で安定化させることで、再吸着を防止する洗浄剤。
製品名 特徴 適用例
CIREX 高純度・高性能クエン酸
水溶液
不純物金属イオンの除去に優れている
電子工業用洗浄剤
Al-CMP用後洗浄剤
W-CMP用後洗浄剤

CLEANシリーズ  

半導体LED
  • Cu-CMPプロセスで発生するパーティクルと不純物金属イオンを同時に除去できる
  • ウェハ表面の各種材料に対するエッチングレートが極めて低い
  • 安全性・環境性に優れる薬液組成
製品名 特徴 適用例
CLEAN-100 高純度・高性能クエン酸水溶液
パーティクルと不純物金属イオンが同時に除去できる
CMP用後洗浄剤
Cu-CMP用
Cu/low-k用

CLEAN-8000シリーズ

高性能洗浄剤
Cu配線のコロージョン抑制とDefect除去に優れている

 

WCPシリーズ 

半導体
  • DHF,SC-1代替の中性洗浄剤。
  • W表面の腐食による表面汚れ等を起こさずに、微粒子の除去が可能。
製品名 特徴 適用例
WCPシリーズ 高性能・高純度天然アミン水溶液 W-CMP用後洗浄剤

 

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