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和光純薬工業のフォトレジスト材料

 近年、半導体の最先端のデバイスは微細加工のレベルがナノ領域へと進み、すでにArFエキシマレーザーによる3Xnm世代の量産化が始まり、その一方では、2Xnm世代の開発が急ピッチで進められております。このような最先端のフォトレジスト材料に使用される酸発生剤、ポリマーの品質は、半導体のナノ領域への微細化に伴い、極めて高度な品質レベルが要求されます。 
 当社は長年にわたって培ってきたフォトレジスト材料の開発/製造技術/分析技術やノウハウを活用し、高品質な酸発生剤、ポリマーを安定的に提供しております。また、近年ではお客様の高度な品質要望に応えるべく全社的に品質保証システムを見直し、原料から製品までの一貫した品質管理と統計管理手法を導入しております。さらに一歩進んだ分析技術を開発する事により、一桁ppbオーダーでの金属管理を実現致しました。

和光純薬工業のフォトレジスト材料

 当社は1987年にKrF用フォトレジスト用酸発生剤、ポリマーを開発して以来、それぞれWPAGシリーズMWPシリーズとして上市しており、KrF/ArF用フォトレジストなどの様々な用途でご使用いただいております。

 

生産設備

 これら最先端の酸発生剤、ポリマーは、一桁ppbオーダーでの金属管理が可能な最新鋭の愛知工場で生産。常に多くのお客様から信頼される最高品質の製品をgスケールからkgスケールでスピーディーにお届けできます。 

 

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