HOME  >  製品紹介  >  エレクトロニクス材料  >  光酸発生剤(WPAGシリーズ)/エレクトロニクス材料

光酸発生剤(WPAGシリーズ)/エレクトロニクス材料

特徴

ジアゾジスルホン系トリフェニルスルホニウム系

WPAGシリーズとしてラインアップしております当社の光酸発生剤は、主要なレジストメーカーのLSI用エキシマレジストに高い品質と性能が実証されています。下記にご紹介する製品の他にも、様々なジアゾジスルホン系、トリフェニルスルホニウム系の光酸発生剤を開発しております。また、光カチオン開始剤として用いられるジフェニルヨードニウム化合物をWPIシリーズとして販売しております。当社では、高品質から汎用まで様々なグレードの製品を供給することが可能です。お客様が希望する酸発生剤の受託合成もうけたまわります。

用途

WPAG-145 (Bis(cyclohexylsulfonyl)diazomethane))

イメージ

CAS.No: 138529-81-4

分子量: 334.45

物性

外観 形状:結晶又は結晶性粉末
色:白色〜淡黄色
融点 130.1〜130.6℃
溶解性 水 :難溶
その他 :エタノール、n−ヘキサンに難溶 アセトン、酢酸エチルに易溶
吸収特性 216nm(ε=10300)
248nm(ε=710)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 3-(4)-461
変異原性 微生物を用いる変異原性試験 陰性
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-149 (2-Methyl-2-[(4-methylphenyl)sulfonyl]-1-[4-(methylthio)phenyl]-1- propanone)

イメージ

CAS.No: 105604-37-3

分子量: 348.48

物性

外観 形状:結晶
色:白色
融点 97〜98℃
溶解性 水 :不溶
その他 :酢酸エチルに易溶 メタノールに可溶
吸収特性 228nm(ε=19810)
248nm(ε=5580)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

WPAG-170 (Bis(tert-butylsulfonyl)diazomethane)

イメージ

CAS.No: 138529-84-7

分子量: 282.38

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:淡黄色〜黄色
融点 121℃
溶解性 水 :難溶
その他 :メタノールに難溶 クロロホルム、アセトン、アセトニトリルに易溶
吸収特性 214nm(ε=10145)
248nm(ε=858)

関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 2-(11)-79
変異原性 微生物を用いる変異原性試験 陰性
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-199 (Bis(4-methylphenylsulfonyl)diazomehtane)

イメージ

CAS.No: 14159-45-6

分子量: 350.41

物性

外観 形状:結晶又は結晶性粉末
色:淡黄色〜黄色
融点 121.4〜122.4℃
溶解性 水 :難溶
その他 :エタノール又はn−ヘキサンに難溶 アセトン、酢酸エチルにやや易溶
吸収特性 -

関連法規・安全性

消防法 危険物第五類ジアゾ化合物(第ニ種自己反応性物質)
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-336 (Diphenyl-4-methylphenylsulfonium trifluoromethanesulfonate)

イメージ

CAS.No: 81416-37-7

分子量: 426.47

物性

外観 形状:結晶
色:白色
融点 102℃
溶解性 水 :不溶
その他 :アセトン、PGMEAに可溶
吸収特性 236nm(ε=19117)
248nm(ε=17424)


関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-367 (Diphenyl-2,4,6-trimethylphenylsulfonium p-toluenesulfonate)

イメージ

CAS.No: 347841-51-4

分子量: 476.66

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:白色
融点 112〜113℃
溶解性 水 :可溶
その他 :メタノール、塩化メチレン、アセトンに可溶
吸収特性 193nm(ε=118131)
248nm(ε=14722)


関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-370 (Diphenyl(4-methoxyphenyl)sulfonium trifluoromethanesulfonate)

イメージ

CAS.No: 116808-67-4

分子量: 442.47

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:白色〜淡黄色
融点 102〜103℃
溶解性 水 :不溶
その他 :ヘキサン、トルエンに不溶 酢酸エチル、IPAに可溶、
     アセトン、メタノール、塩化メチレンに易溶
吸収特性 193nm(ε=52610)
248nm(ε=9000)


関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-469(20% PGMEA Solution)

イメージ

CAS.No [4-Methylphenyldiphenylsulfonium nonafluorobutanesulfonate]: 284474-28-8

分子量: 576.49

CAS.No [Propylene glycol monomethyl ether acetate(PGMEA)]: 108-65-6

分子量: 132.16

物性

外観 形状:澄明液体
色:無色
融点 102〜103℃
溶解性 水 :不溶
その他 :メタノール、アセトン、THF、ジメチルスルホキシドに可溶
吸収特性 237nm(ε=17898)


関連法規・安全性

消防法 危険物第四類第ニ石油類(非水溶性液体)
毒物及び劇物取締法 -
化審法 [4-メチルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホナート]: 告示されていない
[プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA): 2-3144
安衛法 [4-メチルフェニルジフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホナート]: 告示されていない
[プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート(PGMEA): 公表化学物質
変異原性 -
経口毒性(LD50 ラット 8532mg/kg

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-638 (Tris(4-methylphenyl)sulfonium nonafluorobutanesulfonate)

イメージ

CAS.No: 722538-68-3

分子量: 604.56

融点: 94-95℃

物性

外観 形状:結晶
色:白色
融点 94.8℃
溶解性 水 :不溶
その他 :アセトニトリル、メタノール、酢酸エチルに易溶
n-ヘキサン、イソプロピルエーテルに不溶
吸収特性 242nm(ε=25290)


関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

WPAG-699 ((1R,2S,5R)-5-Methyl-2-(propan-2-yl)cyclohexyl 4-methylbenzenesulfonate)

イメージ

CAS.No: 2230-82-2

分子量: 310.45

物性

外観 形状:結晶性粉末
色:白色
融点 93〜94℃
溶解性 水 :不溶
その他 :メタノール、酢酸エチルに可溶
吸収特性 -


関連法規・安全性

消防法 -
毒物及び劇物取締法 -
化審法 告示されていない
安衛法 告示されていない
変異原性 -
経口毒性 -

半導体デバイス製造用フォトレジスト向けなど

さらに詳しくはお問い合わせください。製品へのご質問・ご要望をお待ちしております。

お問い合わせフォーム

受託製造で、お客様のご要望にそった製品をご提案・サポートできます。

受託製造について

他の製品をお探しですか?

製品カテゴリ(一覧)から探す 用途から探す